Ieguldījums tavā nākotnē!
 

        

Vienošanās Nr. 2010/0272/2DP/2.1.1.1.0/10/APIA/VIAA/088 

 
Projekta vadītājs: Juris Purāns

Projekts tiek īstenots ar Eiropas reģionālās attīstības fonda (ERAF) 2.1.1.1 aktivitātes „Atbalsts zinātnei un pētniecībai” atbalstu.
Paredzamais izpildes laiks:  34 mēneši (01/07/2010 - 01/07/2013).

Projekta pieteicējs: Latvijas Universitātes Cietvielu fizikas institūts

Projekta izpildē piedalās sekojošas laboratorijas:
- EXAFS Spektroskopijas laboratorija
- Funkcionālo materiālu fizikas un pielietojumu laboratorija
- Teorētiskās fizikas un datormodelēšanas laboratorija
- Ūdeņraža un gāzu sensoru laboratorija

Inovatīvi, funkcionāli stiklu pārklājumi no mūsdienu tehnoloģiju viedokļa iegūst pilnīgi jaunus aspektus, ievērojot to fizikālo īpašību kopumu, kuru iespējams sasniegt, izgatavošanas procesā manipulējot ar stikla pārklājumu virsmu īpašībām mikro- un nanomērogā. Tā, piemēram, antireflektīvi, zemas siltuma caurlaidības, elektrovadoši, hidrofobi un citi pārklājumu veidi, kuri iegūst pieaugošu nozīmi energoefektīvas arhitektūras, solāro paneļu u.c. pielietojumos.

Projekta izstrādes gaitā Latvijas Universitātes Cietvielu fizikas institūtā (turpmāk – LU CFI) tiks risinātas fizikālās un tehnoloģiskās problēmas, radot jaunus, komerciāli pieprasītus un eksportspējīgus produktus ar augstu pievienoto vērtību.

Daudzām enerģētikas ierīcēm ir vajadzīgi caurspīdīgu vadošu oksīdu (TCO) pārklājumi kā nepieciešamais elements to veidošanai. Tas paver nozīmīgas komerciālas iespējas nodrošināt iekārtas šādu TCO pārklājumu iegūšanai. Patlaban pieejamās iekārtas šādu TCO pārklājumu ražošanai balstās uz dārgo indija oksīda (ITO) materiālu kā starta izejvielu, lai ražotu TCO pārklājumus ar augstāko kvalitāti. LU CFI plāno izstrādāt pamata tehnoloģijas ar daudz zemākām augstākās kvalitātes TCO plāno kārtiņu pārklājumu izmaksām. šīs tehnoloģijas var tikt ietvertas jaunā iekārtu sistēmā.

Projekta ietvaros LU CFI plāno veikt dažādu materiālu, jaunu izsmidzināšanas tehnoloģiju un risinājumu izpēti uz impulsa magnetrona avota bāzes (High Power Impulse Magnetron Sputtering - HIPIMS; US patents, pirmais industriālais tehnoloģijas pielietojums - UK 2004.g.), iespējamo tehnoloģisko darbības principu rūpniecisko izpēti. To kā efektīvu un ekonomiski izdevīgu funkcionālo tehnoloģisko mezglu būs iespējams izmantot vakuuma pārklājumu iekārtās kādā no Latvijas inovatīvajiem ražošanas uzņēmumiem stiklu pārklājumu jomā. Projekta rezultātā tiks veikts komplicēts rūpnieciskais pētījums, lai noskaidrotu iespējamību izmantot HIPIMS avotu vakuuma pārklājumu uznešanā.  

Detalizētāku informāciju var apskatīt projekta mājaslapā (08.05.2013)