Identifikācijas numurs: 1.1.1.3/1./24/A/077
Tips: Eiropas Reģionālās attīstības fonds (ERAF)
Projekta ilgums: 01.06.2025 - 31.05.2028.
Projekta vadītājs: Dr. Juris Purāns, Latvijas Universitātes Cietvielu fizikas institūts (LU CFI)
Atbildīgais no LU CFI: Dr. Juris Purāns, LU CFI
Sadarbības partneri: Sidrabe Vacuum Ltd, AGL Technologies Ltd.
Kopējais finansējums: 651 899 EUR
ERAF finansējums: 506 249 EUR
Mērķis:
Šī projekta mērķis ir izstrādāt un optimizēt progresīvas no Ruļļa-uz-rulli (R2R) uzklāšanas tehnoloģijas liela mēroga funkcionālo pārklājumu izgatavošanai, koncentrējoties uz to pielietojumu Viedajos Logos un Antimikrobiālajos Pārklājumos (R2R-SWAC).
Kopsavilkums:
Projekts paredz uzklāt plānās kārtiņas no fotohromā itrija oksihidrīda (YHO), fotokatalītiskā cinka ferīta (ZnxFe3−xO4) un hidrofobiem jauktu metālu oksīdiem (piemēram, TiO2, ZnO, SnO2) ar īpaši pielāgotām ķīmiskām, strukturālām un funkcionālām īpašībām, izmantojot mērogojamas magnetronās izputināšanas metodes, tostarp augstas jaudas impulsu magnetrono izputināšanu (HiPIMS). Projekta mērķis ir sasniegt tehnoloģiskās gatavības līmeni (TRL) 4. Projekta ilgums – 36 mēneši.
Sagaidāmie rezultāti un nodevumi:
Inovatīvas YHO plānās kārtiņas: Noturīgi un mērogojami fotohromie pārklājumi viedajiem logiem, demonstrējot prototipu un publicētu zinātnisko rakstu.
Uzlaboti antimikrobiālie pārklājumi: Fotokatalītiskās cinka ferīta un hidrofobās metāla oksīdu plānās kārtiņas, lai novērstu mikrobu piesārņojumu, publicēti zinātniskie raksti.
Optimizēta HiPIMS tehnoloģija: Mērogojama un izmaksu efektīva R2R magnetronā izputināšana liela mēroga pārklājumiem, kā rezultātā tiks sagatavots patentpieteikums.
LU CFI uzdevumi:
Plāno kārtiņu uzklāšanas iekārtu sagatavošana gan laboratorijas mēroga, gan liela laukuma R2R sistēmām.
Hidrofobo metāla oksīdu (piemēram, TiO2, ZnO, SnO2) uzklāšanas procesa izstrāde un optimizēšana laboratorijas mērogā uz stikla un polimēru pamatnēm, izmantojot gan impulsa-DCMS, gan HiPIMS, un uzklāšanas parametru pielāgošana, lai mainītu virsmas morfoloģiju un ķīmiju.
Fotokatalītiskā ZnxFe3−xO4 uzklāšanas procesa izstrāde un optimizēšana laboratorijas mērogā uz stikla un polimēru pamatnēm, pielāgojot uzklāšanas parametrus, lai mainītu struktūru un palielinātu virsmas raupjumu.
Visefektīvāko antimikrobiālo kārtiņu uzklāšanas procesa pārnešana uz R2R sistēmu, ieskaitot uzklāšanas parametru optimizāciju un polimēra pirmsapstrādi.