Vislielākais burtu izmērs
Lielāks burtu izmērs
Burtu standarta izmērs
Augsti jonizētas impulsa plazmas procesi (HIPP procesi) (2010 - 2013)
Pēdējās izmaiņas veiktas:
03.07.2013

Projekta vadītājs: Dr.habil.phys. Juris Purāns

COST akcijas mērķis ir attīstīt HIPP procesus, kas ir jauni un inovatīvi plazmas procesi, kas parāda augstu realizēšanas potenciālu virsmas pārklājumiem ar izcilām īpašībām. Akcijas mērķis ir divējāds – Eiropas ekonomiski sociālās vajadzības un zinātniski tehnoloģiskā attīstība.

Latvijas dalība COST programmas akcijā ļaus piedāvāt vakuuma iekārtu ražošanu (piem. AS "SIDRABE") izciliem pārklājumiem, izmantojot HIPP procesus, kā piem., uzlabotie TCO pārklājumi, kas ir nozīmīga sastāvdaļa plāno kārtiņu saules baterijām.

Dalība akcijā ir atbalstāma, jo ERAF-088 un KC projektu ietvaros LU CFI sadarbībā ar AS "SIDRABE" veic dažādu materiālu, jaunu izsmidzināšanas tehnoloģiju un risinājumu izpēti, uz impulsa magnetrona avota bāzes (High Power Impulse Magnetron Sputtering - HIPIMS), iespējamo tehnoloģisko darbības principu izpēti. To kā efektīvu un ekonomiski izdevīgu funkcionālo tehnoloģisko mezglu būs iespējams izmantot vakuuma pārklājumu iekārtās kādā no Latvijas inovatīvajiem ražošanas uzņēmumiem stiklu pārklājumu jomā. COST akcijas MP0804 rezultātā sagaidāmie zinātniskie labumi būs HIPP procesu fizikas fundamentāla izpratne. Sevišķi kopīgie resursi un ekspertīze būs vienoti un neiespējami sasniegt atsevišķam COST partnerim. Balstoties uz HIPP procesu pamatā esošo fizikas izpratni, tehnoloģiskie labumi skars rūpnieciskās iekārtas.